GaN 氮化镓加工

Trinity-Y
GaN 研磨．精磨．CMP機台

• 三機一體式，多功能精磨系統

• 為滿足下一代材料「寬能隙半導體」製程應用而設計

• 多工序、精簡設計，節省空間， 可彈性調整滿足客戶特定製程需求，整合成一套系統

  

• 先進晶圓用之新設計與技術整合
  Trinity-Y First

• 立式減薄磨床

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• 平面研磨

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• CMP拋光機

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